2023年2月7日 · 目前物理气相沉积(PVD)技术是制备电子薄膜材料主要技术之一,其工作原理如下:利用离子源产生的离子,在高真空中经过加速聚集,形成高速度能的离子束流,进而轰击靶材的表面,离子和靶材表面的原子离开靶材并沉积在基底表面。
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了解更多2023年2月7日 · 目前物理气相沉积(PVD)技术是制备电子薄膜材料主要技术之一,其工作原理如下:利用离子源产生的离子,在高真空中经过加速聚集,形成高速度能的离子束流,进而轰击靶材的表面,离子和靶材表面的原子离开靶材并沉积在基底表面。
阅读更多2023年12月7日 · 目前物理气相沉积(PVD)技术是制备电子薄膜材料主要技术之一,其工作原理如下:利用离子源产生的离子,在高真空中经过加速聚集,形成高速度能的离子束流,进而轰击靶材的表面,离子和靶材表面的原子离开靶材并沉积在基底表面。
阅读更多2023年3月16日 · 薄膜较为常用的溅射靶材包括铝靶、铜靶、钼靶、铬靶以及ITO靶、AZO靶(氧化铝锌)等,ITO靶材是当前太阳能电池主要的溅射靶材。 薄膜电池中透明导电膜至关重要,承担着透光和导电的双重作用。
阅读更多2024年7月12日 · 在薄膜太阳能电池生产中,常用的溅射靶材主要有铝靶、铜靶、钼靶、铬靶以及ITO靶和AZO靶(氧化铝锌)等,靶材的纯度和质量会直接影响膜层的质量。
阅读更多2022年10月29日 · 在制造集成电路的过程中需要用 到溅射工艺,目前物理气相沉积(PVD)技术是制备电子 薄膜材料 主要技 术之一。 其工作原理如下:利用离子源产生的离子,在高真空中经过加速 聚集,从而形成高速度能的离子束流,进而轰击靶材的表面,离子和靶材 表面的
阅读更多2024年10月23日 · 2024年3月,河南省人民政府办公厅印发《河南省加快制造业"六新"突破实施方案》,提出要重点发展晶体硅光伏电池材料和化合物薄膜,开发大尺寸单晶硅、多晶硅太阳能硅材料、多晶硅薄膜等,研发新型高效钙钛矿电池材料和铜铟镓硒等薄膜电池材料,打造
阅读更多2024年6月12日 · 在薄膜太阳能电池生产中,常用的溅射靶材主要有铝靶、铜靶、钼靶、铬靶以及ITO靶和AZO靶(氧化铝锌)等。 其中,ITO靶材是当前太阳能电池生产中使用最高为广泛的溅射靶材之一。
阅读更多2023年6月21日 · ITO 靶材是一种新型半导体氧化物陶瓷材料,是氧化铟和氧化锡粉末按一定比例混合后经过相应的生产工艺加工成型,再高温气氛烧结 (1600°C,通氧气烧结)形成的黑灰色陶瓷半导体。 ITO 靶材是半导体光伏、LCD/OLED 显示器等领域核心原材料之一。 它主要用于磁控溅射制备高性能 ITO 光电薄膜,在此过程中 ITO 薄膜以 ITO 靶材作为原材料,通过磁控溅射把
阅读更多2022年10月29日 · 从政策端来 看,靶材作为半导体、平面显示、光伏电池片等领域的重要原材料,受到 国家高度重视。 《重点新材料首批次应用示范指导目录(2019 年版)》中 明确提出将高性能靶材列为重点新材料。
阅读更多2023年2月12日 · 传统电池片生产主要可以概括为 6 个步骤:清洗与制绒、扩散、刻蚀、镀膜、丝网印刷、烧结。 不同种类电池片在生产流程上有所差异,其中 PERC 电池生产工艺步骤在 10 道,TOPCon 12-13 道;HJT 电池 4-5 道。 1.4 发展趋势:N 型电池将成为下一代技术方向. 当前国内前五大电池片生产厂商: 通威股份 、 爱旭股份 、 晶澳科技 、 晶科能源 、韩华。 PERC 电
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